創新集成電路產業鏈BP商業計劃書.pptx
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上傳人:職z****i
編號:1051836
2024-09-08
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1、-福建xx光學股份有限公司-xx 博士 九月,20181創業團隊介紹創業團隊介紹帶頭人:xx學歷:美國中佛羅里達州立大學光學博士 經歷:xx專業:在國際SCI學術期刊發表了10篇論文(8篇第一作者)擁有6項國際專利第一核心成員:xx學歷:美國亞利桑那州立大學光學博士經歷:xxx專業:在國際學術期刊以及會議發表了19篇論文(12篇第一作者)擁有6項國際專利2第二核心成員:xx學歷:美國中佛羅里達州立大學光學博士經歷:xx專業:在國際學術期刊以及會議發表了10篇論文(5篇第一作者)3創業團隊介紹創業團隊介紹我們的團隊成我們的團隊成員員3 位光位光(電電)學博士,學博士,1 位位xx企業家!企業家!2、4創業團隊分工創業團隊分工董事長 xx:資金調度,企業經營總經理 xx:項目開發總監,業務推廣副總經理 xx:技術研發,專利佈局,設備規劃光學系統工程師 xx:光學系統元件分析5項目介紹項目介紹集成電路產業鏈上游IC設計xx聯發科中游IC制造臺積電下游IC封裝日月光ICIC制制造一條龍產業鏈造一條龍產業鏈6項目介紹項目介紹-集成電路制造及封裝中必需的檢測-xx集成電路一條龍產業鏈中游IC制造下游IC封裝晉華矽品xx光學檢測設備瑕疵檢查,尺寸量測更加完整!更加完整!集成電路制造中必需的檢查與量測集成電路制造中必需的檢查與量測7IC制程成敗取決以下的關鍵檢測蝕刻后檢測AEI(after etchi3、ng inspection)曝光后檢測ADI(after developed inspection)集成電路晶圓級封裝中必需的檢查與量測集成電路晶圓級封裝中必需的檢查與量測8扇入型與扇出型封裝 金屬金屬球球bump的檢測的檢測導綫重佈層的檢導綫重佈層的檢測測光學檢測大廠光學檢測大廠-全部掌握在國外廠商全部掌握在國外廠商9NOVAKLA-TENCORNANOMETRICSIC制制造造RuldolphCAMTEKIC封裝封裝10未來鰭片FINFET+3D IC集成電路檢測需求目前集成電路量測所遇到的技術瓶頸目前集成電路量測所遇到的技術瓶頸11大深度大深度多面傾斜角多面傾斜角(SWA)窄寬度窄寬度(4、CD)多層立體結構多層立體結構IC 數數目變多目變多12目前集成電路光學量測的難題目前集成電路光學量測的難題IC尺寸愈來愈小:光學解析度要求很高,分辨不易3D立體結構層次多:光學散射複雜,測偵困難晶圓的IC數目巨大:現有的檢測速度跟不上我們的技術可以克服以上的大部分問題,我們的技術可以克服以上的大部分問題,給出合乎業界理想的測量精度給出合乎業界理想的測量精度半導體量測方法與極限半導體量測方法與極限13電子掃描電子掃描原子力原子力光散射儀光散射儀光學顯微鏡光學顯微鏡縱縱向向解解 析析度度(分分辨辨率率)橫向解析度(分辨率)橫向解析度(分辨率)我們的技術!我們的技術!所有光學檢測技術之比較所有光學5、檢測技術之比較14電子束子束散射光學散射光學顯微微鏡顯微微鏡+散射散射檢測速度速度很慢很慢很快很快很快很快很快很快侵入式侵入式是是否否否否否否模型建立模型建立不需要不需要需要需要長時間時間不需要不需要不需要不需要+很快很快橫向解析度橫向解析度很好很好好好不好不好好好縱向解析度向解析度一般一般好好不好不好很好很好3D檢測敏感度敏感度不好不好好好不好不好很好很好使用需求使用需求研研發量量產量量產量量產應用性用性前端前端+后端后端前端前端后端后端前端前端+后端后端我們的方法我們的方法Laser Port我們的近場顯微鏡我們的近場顯微鏡+散射技術的光學檢測平散射技術的光學檢測平臺臺以下是我們的原型機臺6、以下是我們的原型機臺15SampleSIL in holderObjective lensVacuum chuckObjective lensSampleSample holderBimorphSIL on flexureSwing-arm assemblyNear-field configurationThe two-axis adjustment sample holder and bimorph SIL holder are assembled together in an inverted microscope.近場光學顯微鏡的細部結構近場光學顯微鏡的細部結構1617遠場與近場光學的成7、像比較遠場與近場光學的成像比較a)遠遠場場光光學學,NA=0.8 b)近近場光學場光學,NA=1.5Metallic grating line width 340nm 520nm我們的量測成果與優我們的量測成果與優勢勢優勢優勢1:IC綫寬毛邊成像精確度提高綫寬毛邊成像精確度提高30%18Native polarization near field imageInduced polarization near field imageContrast is improved for induced polarization image.100nm feature size is observabl8、e with 520nm illumination.0.1m feature這兩個圖都是近場成像,右邊是原始成像,左邊是近場成像+偏振極化效應優勢優勢2:增加增加 20%的解析度和色彩對比的解析度和色彩對比表面起伏量測精度高達 2奈米(nm).優勢優勢3:擁有擁有3D立體成像的繪測能立體成像的繪測能力力190 nm130 nm平面成像物理光學計算還原3D立體成像20半導體製程缺陷檢測的市場規模如下表半導體製程缺陷檢測的市場規模如下表市市場規模模光學光學檢測電子束子束檢測201578.4億人民幣16.87億人民幣201689.6億人民幣16.45億人民幣2017102.2億人民幣2018116.9、2億人民幣2019134.4億人民幣2020156.8億人民幣黃色區域為未來預測3D光學檢測每年以20%的成長率在增長213D製程月產能製程月產能 (1萬片萬片/月月)光學檢測機臺的需光學檢測機臺的需求求(制造制造+封裝封裝)平平均每臺銷售金額均每臺銷售金額為為3500萬人民幣萬人民幣3500萬萬4200萬萬4200萬萬4550萬萬5600萬萬4550萬萬8400萬萬9500萬萬人民幣人民幣22光學檢測是集成電路制造及封裝中不可缺的檢測設備xx已具備集成電路產業聚落的條件(晉華+矽品),xx光學將使xx的半導體工業更加完備xx光學如果發展成功,我國的光學檢測設備就可實現國產化,擺脫依賴國外廠商的困境光學檢測設備是高科技產業,投資xx光學可以帶動周邊產業升級與創新,使xx成爲中國的科技重鎮之一2017年中國半導體產值達到5,176億元人民幣,預估2018年可望挑戰6,200億元人民幣的新高紀錄,維持20%的年成長速度。光學檢測設備的市場遠景大好,是現在與未來的明星產業。結語結語